随着科学技术的进步、经济的发展、洁净技术的应用越来越广泛。从微电子技术领域向光电子技术领域扩展。原来市场上计算机显示器将以TFT－LCD型液晶显示器为主，现在以光电子信息技术为主的信息产业成为21世纪最大的产业，从电子行业向医药、医疗、生物工程行业延伸特别的医疗卫生事业的市场需求来势汹涌，涉及全国的城市乡村。医药和医疗卫生，近几年将是洁净室市场中的热点，也是国计民生的大事。
洁净室的标准程度
电子信息产业对洁净室的洁净度标准越来越高，其标准是如下：
集成电路已经走过了大规模（LSI，集成度为10³~10)；
超大规模（VISI,集成度为10~10）；
特大规模（VISI,集成度为10~10）；
1995年进入极大规模（GSI，集成度为10）的集成时代。
10年内，集成电路仍以硅基CMOS电路为主流工艺，其主要发展趋势是加工细微化，硅片大直径化。控制粒径≥0.5um是取集成电路特征尺寸（线宽）的1/10，70年代集成电路的线宽为5 um（人的头发丝直径尺寸为70－100um），当时洁净室的洁净度最高100级（FS209E，每立方英尺空气中≥0.5um的粒子不100超过颗），已满足生产工艺（制程）的要求9即保证芯片的成品率）。
40年来，集成电路的发展摩尔定律：即按每年3年特征尺寸减小0.7倍的规律发展，芯片的集成度正以三年四倍或两年三倍的速度在提高制造设备和制造IC产品的换代周期约为3－4年。目前已进入，特性尺寸0.25um－0.18um，深亚微米加工技术和集成5－6亿个元器件的巨大规模（GLS1）电路的发展时期。控制颗粒最小量值为0.1um，取1/2~1/3线宽。这样，工艺制程对洁净室洁净度的要求提高了2个数量级。
产品决定环境，污染控制是目的，洁净技术是不断旨在创造满足产品要求的生产环境，是现代工业的基础，服务于所有的行业。
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